Exquis T4全譜直讀光譜儀
Exquis T4全譜直讀光譜儀采用了光室密封循環充系統，高分辨率的CMOS 全譜檢測技術，使得儀器既有緊湊流線的外觀設計，同時具有極佳的分析性能。可用于鑄造、來料檢驗、質量控制、廢品回收等金屬材料及金屬產品分析的各個方面。
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技術參數
| 光學結構 | 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學系統 |
| 電極 分析間隙 氬氣流量 | 鎢材噴射電極 4mm 激發流量約3.5L/min，待機流量約0.1L/min |
| 光源類型 | 數字光源，高能預燃技術（HEPS） 100-1000HZ |
| 探測器 其他功能 | 高性能CMOS陣列 光室溫度，軟件自動控制壓力，通訊監測 |
| 可檢測基 檢測時間體 | Fe，Al，Cu，Zn，Ni，Mg，Ti，Pb，Sn 依據樣品類型而定，一般20S左右 |
| 工作電源 | AC220V 50/60Hz |
| 主機尺寸 | 520*650*320mm 約45Kg |
激發光源
數據采集系統 
性能指標 
電源功耗
尺寸與重量儀器特點
| 采用可編程脈沖合成全數字光源，性能卓越且免維護。 適用于各種合金材料的激發，有效提升分析精度。 | |
| 充氬氣凈化光室，斷電斷氣自動密閉功能，無真空泵帶來的噪音和油污風險 光學室內部恒溫、恒壓確保光學系統不受外界環境變化和影響 | |
| 可配置萬能小樣品夾具，針對1.2mm-13mm不同直徑樣品的分析 也可以配置氮化硼墊片，適合6mm以上樣品的直接分析 靈活適應不同幾何形狀的大/小樣品分析需求。 | |
| 樣品裝載與激發流程簡化，一鍵操作直接獲取結果。 適應工廠檢測環境，顯著提升工作效率。 | |
| 分析過程中實時進行光譜漂移校正，增強儀器穩定性。 減少標準化校正次數，延長校正周期，簡化操作流程。 | |
| 智能曲線功能滿足基體內材料分析需求。 智能鏈接適當曲線模型，獲得更準確的分析結果。 簡化未知樣品分析流程，無需糾結模型選擇。 |
智能可靠的全數字光源 
穩定
